專利佈局分析系統是一種用於統整、可視化與分析專利資料的工具，幫助企業或研發單位快速掌握特定技術領域的專利分布、競爭者布局與研發趨勢。透過圖表與資料交叉比對，可協助決策者制定研發方向與智慧財產策略。

一般的專利檢索僅著重在「找到相關專利」，而佈局分析系統則進一步提供專利量化分析、競爭者比較、關鍵技術主題聚類與視覺化圖表等功能。
簡單來說，它不只是找資料，而是幫助你「看出趨勢」與「找出策略」。

本系統特別適合：

• 企業研發與智權部門：制定技術研發與專利策略。

• 專利事務所或顧問公司：協助客戶進行技術佈局分析。

• 學研機構或政府單位：觀測產業技術演進與創新動態。

系統可整合多種來源的專利資料，例如 全球專利資料庫（USPTO、EPO、JPO、TIPO 等），並支援自有專利清單匯入（CSV、Excel）。
同時可搭配企業內部研發資料或專案代碼，以建立更貼近實際的技術佈局視圖。

不需要。系統提供 直覺化的圖表介面與自動分析模組，即使沒有專利背景也能快速看懂分析結果。
對進階使用者，也提供自訂條件、技術分類與報告輸出功能，滿足不同層級的分析需求。